内在分布匹配（IDM）改进一步文生图

IDM用生成器EMA特征显式约束矩，提升少步文生图细节

资讯摘要

论文提出内在分布匹配（IDM），在分布匹配蒸馏（DMD）基础上，将反向KL场分解为高斯矩分量与非高斯残差，用生成器EMA副本显式匹配特征均值与逐坐标标准差，无需外部特征编码器。作者在Z-Image-Turbo 6B与Qwen-Image 20B上做全参数与LoRA调优，两次网络评估下LongText-Bench中英文得分分别为94.25%和90.20%，为同预算对比方法中最高。

要点速读

1. IDM保留完整DMD校正，并加入矩约束，用生成器EMA特征替代外部编码器
2. 在Z-Image-Turbo 6B和Qwen-Image 20B上测试全参数与LoRA调优
3. 两次网络评估下LongText-Bench中文94.25%、英文90.20%，为对比方法中最高；消融显示矩损失带来增益

中文摘要由 AI 根据公开来源生成，可能存在理解偏差；具体能力、数字、开放时间等信息请以原文为准。
采集于 2026/10/31 08:00:18（北京时间）。