多比特生成水印的最优方案

论文提出两种达到漏检概率下界的最优多比特水印构造。

资讯摘要

论文研究大语言模型多比特生成水印在最坏情况误报约束下的性能问题。作者指出，此前提出的方案声称达到有限 token 情形下的漏检概率下界，但实际上并非最优；论文提出两种新的编解码构造，均达到该下界，从而完整刻画了最优多比特水印性能。方法将水印设计表述为线性规划，并给出实现最优的结构条件，同时分析了旧构造的失效机制及两种新方案的权衡。

要点速读

1. 论文指出此前声称达到漏检概率下界的多比特水印方案实际次优
2. 提出两种新的编码-解码构造，均达到既有下界
3. 将水印设计建模为线性规划，并比较两种新方案的取舍

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采集于 2026/11/3 08:00:27（北京时间）。 arXiv 日期为本次公告时间，论文初次投稿日期请查看原文版本记录。